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銅合金原生氧化膜的定量評價設備

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對銅合金、鋁合金、引線框材料、鍍鎳等自然氧化層和強制加熱氧化層,可以進行工藝內的定量控制。

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圖1 電荷轉移后表面電位的轉變 <磷-脫氧銅>

圖 2 初始表面電位 Vi 的躍遷

圖 3 表面電位位移 dV0 的轉變

圖 4 表面電位位移 dV0 的轉變(磷脫氧銅)

 
樣本轉換功函數 θ(eV)測量值 Vi (mV)
磷脫氧銅4.89215
黃銅4.61491
磷青銅4.95151
鎳銀4.83271

Vi在拋光后立即或約1小時后逐漸降低,約100小時后進入穩定區域(圖2)。
Vi 的減少量隨著 Vi 的增加而增加(較低的功函數)(在含有最多堿基鋅的黃銅和鎳銀中較大)。
站立 100 小時后,dV0 與對數函數成比例增加(圖 3 和圖 4)。
由上可知,自然氧化膜在暴露約100小時后覆蓋整個表面,然后以對數比例生長。
根據另一項測量,在磷脫氧銅上放置約 250 天后形成的自然氧化膜 (Cu2O) 的厚度估計約為 15 nm。





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