銅合金原生氧化膜的定量評價(jià)設(shè)備

對銅合金、鋁合金、引線框材料、鍍鎳等自然氧化層和強(qiáng)制加熱氧化層，可以進(jìn)行工藝內(nèi)的定量控制。

銅合金原生氧化膜的定量評價(jià)

圖1 電荷轉(zhuǎn)移后表面電位的轉(zhuǎn)變 <磷-脫氧銅>

圖 2 初始表面電位 Vi 的躍遷

圖 3 表面電位位移 dV0 的轉(zhuǎn)變

圖 4 表面電位位移 dV0 的轉(zhuǎn)變（磷脫氧銅）

Vi在拋光后立即或約1小時(shí)后逐漸降低，約100小時(shí)后進(jìn)入穩(wěn)定區(qū)域（圖2）。
Vi 的減少量隨著 Vi 的增加而增加（較低的功函數(shù)）（在含有最多堿基鋅的黃銅和鎳銀中較大）。
站立 100 小時(shí)后，dV0 與對數(shù)函數(shù)成比例增加（圖 3 和圖 4）。
由上可知，自然氧化膜在暴露約100小時(shí)后覆蓋整個(gè)表面，然后以對數(shù)比例生長。
根據(jù)另一項(xiàng)測量，在磷脫氧銅上放置約 250 天后形成的自然氧化膜 (Cu2O) 的厚度估計(jì)約為 15 nm。