產品資料
高均勻性半導體金屬鹵化物 UV曝光照明單元
產品名稱: 高均勻性半導體金屬鹵化物 UV曝光照明單元
產品型號: MUL-135
產品特點: 高均勻性半導體金屬鹵化物 UV曝光照明單元MUL-135 是一套高均勻性、高穩定性的 金屬鹵化物 UV曝光照明單元，專為精密光刻和微結構曝光設計，適用于半導體、MEMS、PCB 等行業的 i-line（365 nm）曝光系統，是替代傳統汞燈、提升曝光一致性的理想光源模塊。日本 Cerma Paecision（セルマ?プレシジョン）MUL-135 是一款專為 金屬鹵化物組合光源 設計的 UV曝光
高均勻性半導體金屬鹵化物 UV曝光照明單元 的詳細介紹
高均勻性半導體金屬鹵化物 UV曝光照明單元
高均勻性半導體金屬鹵化物 UV曝光照明單元
日本 Cerma Paecision（セルマ?プレシジョン）MUL-135 是一款專為 金屬鹵化物組合光源 設計的 UV曝光照明單元，主要用于半導體、光電子、MEMS、印刷電路板（PCB）、液晶面板等行業的 精密光刻曝光工藝 中，提供高穩定性、高均勻性的紫外照明。
? 產品核心特點
| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 光源類型 | 金屬鹵化物燈（Metal Halide）組合 |
| 型號 | MUL-135 |
| 用途 | UV曝光照明單元（非單獨燈管，是整套照明模組） |
| 輸出波長 | 主峰 365 nm（i-line），可選配 405 nm（h-line）或組合 |
| 照明均勻性 | ≥ 98%（在有效區域內） |
| 曝光面積 | 支持 4 英寸、6 英寸、8 英寸掩模版（可定制） |
| 燈管功率 | 135 W（組合總功率） |
| 冷卻方式 | 強制風冷 + 熱管散熱（低振動、無液冷） |
| 控制方式 | 0-100% 線性調光，支持快門、定時、外部觸發 |
| 使用壽命 | 平均 2,000 小時（在額定功率下） |
| 接口 | RS-232C / I/O 觸發 / 腳踏開關（可選） |
? 應用方向
| 行業 | 用途 |
|---|---|
| 半導體 | 光刻膠曝光、晶圓級封裝（WLP） |
| MEMS | SU-8 膠、厚膜光刻 |
| PCB/FPC | 干膜曝光、精密線路圖案轉移 |
| LCD/OLED | 配向膜、微透鏡陣列曝光 |
| 光學元件 | 光波導、衍射光柵、微結構復制 |
? 優勢總結
- 高均勻性照明：適合微米級線條曝光，邊緣清晰度高
- 穩定輸出：內置反饋傳感器，實時調節燈管功率，保證曝光一致性
- 模塊化設計：可替換燈管、濾光片、反光罩，維護方便
- 低熱影響：高效散熱結構，減少熱漂移對掩模的影響
- 兼容性強：可接入現有曝光機、掩模對準機、步進式光刻機系統
? 可選配件
- 濾光片模塊（365 nm 帶通、405 nm 帶通）
- 快門單元（氣動或電動）
- 光纖導光接口（用于遠程照明）
- 燈管壽命監控模塊（提醒更換）
? 總結一句話：
MUL-135 是一套高均勻性、高穩定性的 金屬鹵化物 UV曝光照明單元，專為精密光刻和微結構曝光設計，適用于半導體、MEMS、PCB 等行業的 i-line（365 nm）曝光系統，是替代傳統汞燈、提升曝光一致性的理想光源模塊。
日本 Cerma Paecision（セルマ?プレシジョン）MUL-135 是一款專為 金屬鹵化物組合光源 設計的 UV曝光照明單元，主要用于半導體、光電子、MEMS、印刷電路板（PCB）、液晶面板等行業的 精密光刻曝光工藝 中，提供高穩定性、高均勻性的紫外照明。
? 產品核心特點
| 項目 | 參數 |
|---|---|
| 光源類型 | 金屬鹵化物燈（Metal Halide）組合 |
| 型號 | MUL-135 |
| 用途 | UV曝光照明單元（非單獨燈管，是整套照明模組） |
| 輸出波長 | 主峰 365 nm（i-line），可選配 405 nm（h-line）或組合 |
| 照明均勻性 | ≥ 98%（在有效區域內） |
| 曝光面積 | 支持 4 英寸、6 英寸、8 英寸掩模版（可定制） |
| 燈管功率 | 135 W（組合總功率） |
| 冷卻方式 | 強制風冷 + 熱管散熱（低振動、無液冷） |
| 控制方式 | 0-100% 線性調光，支持快門、定時、外部觸發 |
| 使用壽命 | 平均 2,000 小時（在額定功率下） |
| 接口 | RS-232C / I/O 觸發 / 腳踏開關（可選） |
? 應用方向
| 行業 | 用途 |
|---|---|
| 半導體 | 光刻膠曝光、晶圓級封裝（WLP） |
| MEMS | SU-8 膠、厚膜光刻 |
| PCB/FPC | 干膜曝光、精密線路圖案轉移 |
| LCD/OLED | 配向膜、微透鏡陣列曝光 |
| 光學元件 | 光波導、衍射光柵、微結構復制 |
? 優勢總結
- 高均勻性照明：適合微米級線條曝光，邊緣清晰度高
- 穩定輸出：內置反饋傳感器，實時調節燈管功率，保證曝光一致性
- 模塊化設計：可替換燈管、濾光片、反光罩，維護方便
- 低熱影響：高效散熱結構，減少熱漂移對掩模的影響
- 兼容性強：可接入現有曝光機、掩模對準機、步進式光刻機系統
? 可選配件
- 濾光片模塊（365 nm 帶通、405 nm 帶通）
- 快門單元（氣動或電動）
- 光纖導光接口（用于遠程照明）
- 燈管壽命監控模塊（提醒更換）
? 總結一句話：
MUL-135 是一套高均勻性、高穩定性的 金屬鹵化物 UV曝光照明單元，專為精密光刻和微結構曝光設計，適用于半導體、MEMS、PCB 等行業的 i-line（365 nm）曝光系統，是替代傳統汞燈、提升曝光一致性的理想光源模塊。
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