半導體行業(yè)應用等離子清潔器裝置

半導體行業(yè)應用等離子清潔器裝置

CP-Plasner®是一款利用13.56MHz高頻率的等離子體產(chǎn)生裝置。主要領(lǐng)域包括電子顯微鏡等表面觀察技術(shù)。這是為了去除附著在分析裝置真空容器內(nèi)壁上的有機類污染物。

兩項利技術(shù)帶來穩(wěn)定與安心。

采用了已獲得利的氣體流量調(diào)節(jié)振動器和等離子體點火方法。
在清潔過程中，真空容器內(nèi)的壓力不會發(fā)生波動。
我們會與客戶協(xié)商所需處理的藥膜的工藝條件，并選擇最合適的流量調(diào)節(jié)振動器。

• 由于清潔過程中沒有壓力波動，因此可以生成穩(wěn)定的等離子體，而RF反射量不會發(fā)生變化。

• 從清洗開始到結(jié)束均可通過一鍵操作實現(xiàn)。這里沒有任何復雜的操作。

• 清潔條件可通過觸摸屏進行設置。還會顯示放電狀態(tài)（RF入反射）。

CP-Plasner®是一款利用13.56MHz高頻率的等離子體產(chǎn)生裝置。主要領(lǐng)域包括電子顯微鏡等表面觀察技術(shù)。這是為了去除附著在分析裝置真空容器內(nèi)壁上的有機類污染物。

兩項利技術(shù)帶來穩(wěn)定與安心。

采用了已獲得利的氣體流量調(diào)節(jié)振動器和等離子體點火方法。
在清潔過程中，真空容器內(nèi)的壓力不會發(fā)生波動。
我們會與客戶協(xié)商所需處理的藥膜的工藝條件，并選擇最合適的流量調(diào)節(jié)振動器。

• 由于清潔過程中沒有壓力波動，因此可以生成穩(wěn)定的等離子體，而RF反射量不會發(fā)生變化。

• 從清洗開始到結(jié)束均可通過一鍵操作實現(xiàn)。這里沒有任何復雜的操作。

• 清潔條件可通過觸摸屏進行設置。還會顯示放電狀態(tài)（RF入反射）。